每套純化系統使用環境空間:25 立方米
一.[純化系統箱本體]

1. 純化系統箱本體外尺寸：1200L X 1000W X 1800Hmm,底部骨架附輪子與高低調整腳。
2. 純化系統箱材質：不銹鋼 SUS304,板厚度：1.5mm，骨架 50 X 50 X 2T 外部粉體烤漆處理。
3. 工作氣體：液態氮氣化供氣或氮氣鋼瓶供氣,純度 99.99%以上氮氣惰性氣體。

二. [電控系統]

1. 電源：220V/60Hz,20A。
2. 系統控制：PLC 可程式控制器搭配 8 吋中英文觸控人機介面操控及顯示水氧濃度及壓力值。
3. 環境壓力可自由設定,自動定壓(0-16mbar)控制與腳踩加壓/減壓開關控制環境空間之壓力。
4. 提供一組水氣/氧氣與臭氧 Analogue output(4~20mA)輸出給 AUO 接到中控室

三.[氣體純化/再生系統與氣體管線]

1. 純化系統：氣體密閉回路循環除水與除氧系統，雙純化器交替運作。
2. 環境空間之氣體經純化系統處理後濃度：MOISTURE<5ppm(v) , OXYGEN<5ppm(v) 。
3. 純化器(含觸媒)：材質為不銹鋼 SUS 304，含加熱器與保溫,可重復再生。
4. 再生控制：由 PLC 人機介面自動程式控制（自動/手動等再生操控模式）,純化器再生之日期具記憶功能，可顯示於人機畫面上。
5. 再生氣體：氮氫混合氣 N2/H2 mixture（H2：5%+ N2:95%）。
6. 純化系統循環風車：氣體循環流速 1000 m3/h at ∆ P=50 mbar,220v,三相鼓風機含調速變頻器.
7. 純化系統閥件：採用 KF-50 真空用氣動閥控制。
8. 控制閥：電磁閥 3/8”,PLC 控制。
9. 純化系統管線：不銹鋼配管,Type KF-50 真空接頭系統。
10. 供氣配管：不銹鋼 3/8”。
11. 純化循環系統洩漏率：<10-5 mbar-l/s（Purifier Unit And Components）。
12. 過濾器 0.3μm 循環過濾微塵氣體。
13. 環境空間純化/再生系統的氣體需要配管至 67 立方米空間。
14. 環境空間純化/再生系統需要將臭氧值控制在 5PPB 以下規格，AUO 內部空間臭氧值 100PPB 以內
15. 雙套壓縮機式 COOL SOLVENT TRAP 有機氣體吸附器。

四.[純化系統再生真空幫浦]
真空幫浦：乾式 TS-300 真空幫浦。

五.[水氣/氧氣與臭氧偵測儀]

1. 微量水份分析儀：0-1000PPM(V) 。
2. 微量氧氣分析儀：0-10PPM、0-100PPM、0-1000PPM、0-10%、0-25% 等 RANGE。
3. 臭氧分析儀一套: 0 -100PPB。

六.[自動 PURGING 系統]
環境空間 PURGING 系統,可自由設定水氧濃度值,濃度偵測全自動啟動 PURGING 系統環境空間純化/再生系統需在 8~24 小時內將 67 立方米空間製造成氧氣 5PPM 以下，水份 5PPM 以下，臭氧 5PPB 以下之操作環境。

七.[設備驗收規格]
現場環境空間確保洩漏率：需小於 0.05Vol%/h。
現場氮氣(99.999%)需求壓力 6.0kg/cm2。 
現場再生混合氣(如規格三之 5)需求流量 20L/min。
本公司提供箱體作氣體純化後水/氧值確認可降至 5PPM 以下現場測試，並含教育訓練。